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行业新闻

News | 京东方晶芯科技有限公司成立;维信诺506件Micro LED专利转让;南大光电拟募资6.35亿建光刻胶项目

2020-11-10 10:59:12


京东方100%控股,注册资本9.5亿元成立京东方晶芯科技有限公司


企查查APP显示,11月4日,京东方晶芯科技有限公司成立,法定代表人为陈明,注册资本9.5亿元人民币,经营范围包含:计算机系统服务;互联网数据服务;信息处理和存储支持服务等,由京东方A(000725)100%控股。

一、企业基本信息

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二、京东方晶芯科技股权结构:


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三、主要成员:

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3亿元!维信诺将506件Micro LED相关专利全部转让


11 月 6日维信诺公布,公司控股公司昆山国显光电有限公司(“国显光电”)、云谷(固安)科技有限公司(“云谷固安”)和昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司(“昆山工研院”)拟与成都辰显光电有限公司(“成都辰显”)签署《专利转让合同》。公司需按照合同约定将持有的部分与Micro LED相关的专利技术转让给成都辰显,成都辰显按合同约定的条款支付相应的费用。



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根据公司聘请符合《证券法》规定的资产评估机构北京天健兴业资产评估有限公司出具的天兴评报字(2020)第1245号《资产评估报告》,此次拟转让的无形资产评估金额为人民币30526.48万元,根据评估结果,交易各方经协商一致同意此次专利转让费用为人民币3亿元。


一、交易对方的基本情况


成都辰显是公司与成都国资投资平台共同投资设立的 Micro LED 项目运营主体。根据项目规划,成都辰显将在成都市高新区建设 Micro LED 显示器件及模组试验线和中试线,围绕巨量转移、驱动与检测、芯片设计、彩色化等关键技术展开研发、生产工作。成都辰显注册资本 10.5263 亿元,公司投资 2 亿元,持有其19%的股权。Micro LED 因前期研发投入资金量较大,且尚未实现商用量产,公司以参股形式与当地政府合资设立项目实施主体,一方面通过联合政府资源对于未来有较大市场前景的先进技术进行前瞻性的技术研发和储备,另一方面能够集中内部资源发展公司主营的 AMOLED 业务,符合公司长期战略发展规划。

1.公司名称:成都辰显光电有限公司 

2.统一信用代码:91510100MA66TMTKX8

3.注册地址:成都高新区天映路 146 号 

4.公司类型:其他有限责任公司 

5.法定代表人:徐亚平 

6.注册资金:105,263 万人民币 

7.成立日期:2020 年 8 月 4 日

8 . 经营范围:光电子器件研发、销售;新型显示器件研发、销售;技术推 广服务;货物进出口(国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外);技术进出口(国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外);测试评估服务;标准化服务;集成电路设计;会议及展览展示服务。成都辰显股权比例如下:


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二、本次转让专利的基本情况


近年来,公司持续在 Micro LED 技术领域研发探索,本次专利转让的与 Micro LED 相关的 506 项专利技术及专有技术均为自主研发获得,主要涉及背板技术、巨量转移技术、驱动技术、封装及模组技术、设备技术以及终端技术六类。其中发明专利 493 项,实用新型 13 项。发明专利中有 183 项已获得专利证书,310 项已经受理处于申请状态;实用新型专利中有 11 项已获得专利证书,2 项已经受理处于申请状态。具体情形见下表:


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南大光电拟募资6.35亿元投建ArF光刻胶、扩建三氟化氮等项目


11月7日南大光电发布公告披露向特定对象发行股票预案。本次发行对象为不超过35名符合证监会规定的特定对象,募集资金总额不超过63,500.00万元,扣除发行费用后的净额将用于光刻胶项目、扩建2000吨/年三氟化氮生产装置项目、补充流动资金。


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一、光刻胶项目 


本项目拟投资 66,000.00 万元,进行 ArF 光刻胶产品开发和产业化工作。项目目标到 2021 年底,将在我国:1)首次建立 ArF 光刻胶产品大规模生产线,形成年产 25 吨 ArF(干式和浸没式)光刻胶产品的生产能力,产品性能满足 90nm-14nm 集成电路制造的要求。产品通过 IC 芯片制造企业的使用认证,实现批量销售;2)建立国内第一个专业用于 ArF 光刻胶产品开发的检测评估平台。江苏南大光电材料股份有限公司 2020 年度向特定对象发行股票预案 21 平台配备 ArF 光刻机、涂胶显影一体机、特征尺寸扫描电镜、缺陷检测和分析等检测设备,满足先进光刻胶产品和技术开发的需求;3)建立一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍。 本项目的实施单位为子公司宁波南大光电材料有限公司,建设内容包括“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化”。


1、先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化


建设内容为建立光刻胶配套高纯显影液的规模化生产线,包括合成、纯化、 分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备;另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心,包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关键量测设备。项目完全达产后,将建成光刻胶研发中心、先进光刻胶的分析测试中心,以及年产 350 吨的高纯显影液的生产线。


2、ArF 光刻胶产品的开发和产业化


建设内容为建立包含高等级超净间在内的 ArF 光刻胶生产线,具备 ArF 光刻胶产品的生产能力;建立 ArF 光刻胶配套关键组分材料的生产能力,完善光刻胶原材料的供应。项目完全达产后,将建成年产 5 吨 ArF 干式光刻胶的生产线、年产 20 吨 ArF 浸没式光刻胶的生产线以及年产 45 吨的光刻胶配套高纯试剂的生产线。


二、扩建 2000 吨/年三氟化氮生产装置项目


本项目拟投资 30,000.00 万元,扩建 2000 吨/年三氟化氮生产装置项目,包括:5#三氟化氮电解厂房、6#三氟化氮电解厂房、3#三氟化氮后处理厂房。公司主要从事 MO 源产品业务、高纯电子特气产品业务、光刻胶及配套材料业务、ALD 前驱体产品业务。报告期内,公司主要收入来源为 MO 源和电子特气产品,其中电子特气业务已成为公司强劲的利润增长点,公司原有的电子特气产品主要为高纯磷烷、砷烷,亟需拓展业务板块,巩固在电子特气业务的行业领先地位。公司通过本次募投项目的实施,将扩大三氟化氮气体产能,从而深化含氟电子特气领域投资布局,增强对公司集成电路客户的服务能力,扩大公司产品的市场份额,参与含氟电子特气全球竞争,保持公司在电子特气领域的领先地位和市场竞争力。