公司简介

大连华邦化学有限公司（展位号：特4C30）

2013年由多位催化与气体纯化专家与联合成立的国家高新技术企业，注册资本5000万元。华邦化学与多家科研单位建立了科研合作，主要从事超纯气体纯化技术的研制与开发。

大连华邦化学有限公司（HPC）超纯技术团队从20世纪60年代在国内率先从事超纯气体分析和制备领域的研究，拥有催化剂、吸附剂、Getter等气体纯化材料的核心技术及研发能力，掌握核心工艺，并将应用在所生产的的纯化器之中。

推荐产品

大连华邦拥有各类9N气体纯化器。

产品特点：

1、采用催化，吸附、Getter等技术联用，保证气体纯化指标。

2、拥有自主知识产权核心催化剂，稳定性强，脱除深度高。

3、稳定性强，全自动运行维护量少。

4、抗意外能力强，短时间断水、断电不影响产气指标。

5、再生周期长，可实现不间断产气，在线维修。

PH8系列——氮气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

设备简介：

1、半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序设备所需的N₂、H₂、Ar、NH₃等气体进行纯化。

2、光纤行业：对保护氮、氦气进行终端纯化。

3、气体行业：对气源气体进行纯化。

4、冷轧行业：对保护氮气进行纯化。

PH9——氮气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

设备简介：

1、气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH₄（包括H₂、CO）与O₂反应转化为H₂O和CO₂。

典型应用：

1、半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序中设备所需的超纯氮气终端纯化。

2、光纤行业：保护氮、氦气的终端纯化。

PH7——氢气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

典型应用：

1、用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。

PH6系列——氧气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

典型应用：

1、半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：器件制备工艺中热氧化、扩散、MOCVD、等离子干刻等工序所需的超纯O₂终端纯化。

2、光纤行业：光导纤维所需O₂的纯化。

PH5系列——氩气、氦气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

1、PH5-H：通过吸附工序，脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂等杂质，通过吸气柱脱除N₂、CH₄。

2、PH5-G：气体通过高温状态下的吸气柱，可深度吸收脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂、CO、H₂、CH₄、N₂等杂质。吸气柱吸附饱和后，整体更换。

典型应用：

1、用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。

PH21系列——氨气纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

工艺介绍：

1、PH21氨气纯化器通过吸附工序，采用双吸附容器，深度脱除工艺气体中的O₂、H₂O、CO₂、NMHC，纯化再生模式交替进行，提供对工艺气的连续纯化。

2、PH21系列氨气纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性。

PH22系列——XCDA纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

工艺介绍：

1、采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的H₂O、CO₂、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、总有机碳TOC等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。

PH32/33系列——二氧化碳纯化器

单项杂质脱除均<1ppb

工艺介绍：

1、PH32系列采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的。上表中杂质CH₄、O₂、H₂O、H₂、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。

2、PH32系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CO₂中的污染杂质，满足客户现场需求。

3、PH33系列气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH₄、还原性杂质与O₂反应转化为H₂O和CO₂。

4、气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH₄、O₂、H₂O、H₂、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。

5、吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生，反复使用。

Q9系列——POU纯化器

典型应用：

1、电子行业生产线及研发过程：气体纯化。

2、化工研究:烃类、N₂、H₂纯化。

3、分析：色谱载气纯化、测氧仪、露点仪的零点较对。