DIC 2022展商丨晶洲装备，高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商
2022-02-14 14:43:53
公司简介
苏州晶洲装备科技有限公司以国际视野、国产装备为企业口号，在平板显示领域，从清洗、显影、刻蚀，到剥离、蒸镀前清洗，提供了切实有效的解决方案，以G8.5湿法刻蚀设备为代表，研发出清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备。
产品优势：
项目 | 晶洲产品 | 进口装备 |
刻蚀速率均一性 | ≥92% | ≥90% |
刻蚀线宽均一性 | ≥92% | ≥90% |
线宽误差 | ±0.8μm | ±0.8μm |
01
清洗机cleaner
成膜前清洗，直径大于1μm的颗粒物不能超过100颗，以确保制造良率，单张基板需清洗30次以上，占面板制程总工序约30%。
适用基板尺寸：All Size
适用基板厚度：≥0.3mm
清洗方式：UV/AP，DB/RB Brush，HP，BJ/SJ，HPMJ，MS，IR……
设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
02
显影机Developer
适用基板尺寸：All Sizle
适用基板厚度：≥0.3mm
显影类型：Oscilation Type Shower
设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
工艺能力：
1.High Uniformity Ultra-low Pressure Spray；
2.Excellent Process Reliability，High CD Uniformity；
3.Defoaming Management；
4.No Mist, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；
03
湿法刻蚀机Wet Etcher
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